| 專利名稱 |
一種正偏壓輔助光Fenton方法 |
| 申請?zhí)?專利號 |
CN202111373587.7 |
專利權人（第一權利人） |
吉林大學 |
| 申請日 |
2021-11-19 |
授權日 |
2023-10-03 |
| 專利類別 |
授權發(fā)明 |
戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)分類 |
材料化工 |
| 技術主題 |
硝基苯|空穴|光反應|光化學|光生電子|物理學|載流子壽命|材料科學|半導體材料|能隙 |
| 應用領域 |
特殊化合物水處理|光照水/污水處理|水污染物|氧化水/污水處理 |
| 意向價格 |
具體面議 |
| 專利概述 |
本發(fā)明屬于水處理技術領域，具體為一種新型正偏壓輔助光Fenton技術，包括步驟1：材料的制備，CC/TiO2/CuFe?LDH材料的制備；步驟2：進行偏壓輔助光Fenton反應降解硝基苯，其設計合理，半導體材料在正偏壓的作用下，能帶向上彎曲，帶隙變窄，促進光生電子空穴分離，能延長載流子壽命；在正偏壓的作用下，TiO2光照激發(fā)出的光生電子向CuFe?LDH移動，光生電子促進Cu3+/Cu2+和Fe3+/Fe2+的循環(huán)；空穴產(chǎn)生的·OH用于降解污染物，能有效分離光生電子空穴同時提高對光生電子空穴的利用率。 |
| 圖片資料 |
|
| 合作方式 |
擬轉(zhuǎn)讓 |
| 聯(lián)系人 |
戚梅宇 |
聯(lián)系電話 |
13074363281 |
