| 專(zhuān)利概述 |
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種基于非諧振輔助的納米壓印裝置，首先將襯底放在襯底卡盤(pán)中，調(diào)節(jié)Y軸位移平臺(tái)及X?Z軸位移平臺(tái)使襯底移動(dòng)到模板正下方，再控制X?Z軸位移平臺(tái)使壓印裝置向下運(yùn)動(dòng)，直至壓印裝置與襯底微接觸，控制X?Z軸位移平臺(tái)進(jìn)行壓印，在壓印同時(shí)使用Z向振動(dòng)平臺(tái)對(duì)襯底施加Z向振動(dòng)，然后利用冷卻裝置對(duì)襯底進(jìn)行冷卻固化，最后用揭開(kāi)式振動(dòng)輔助的方法進(jìn)行脫模，本實(shí)用新型采用Z向振動(dòng)平臺(tái)帶動(dòng)襯底進(jìn)行壓印，提高模板空腔的填充率與微納圖案的分辨率；采用吸氣泵及多個(gè)獨(dú)立封閉通道在脫模時(shí)實(shí)現(xiàn)揭開(kāi)式脫模，在模板在與襯底逐漸分離的同時(shí)進(jìn)行振動(dòng)輔助，減小模板與壓印膠間的粘附力，從而減少脫模時(shí)對(duì)模板造成的損傷與毀壞，延長(zhǎng)模板的使用壽命。 |
